主要用途

　　是生產(chǎn)各種金屬膜電阻及氧化膜電阻的專用設(shè)備,可以完成高、中、低不同阻值的鍍膜工藝。

　　主要組成

　　設(shè)備由真空室、真空機(jī)組、直流濺射源、射頻濺射源、分流式滾筒、充氣裝置、真空測量及其它輔助裝置等組成。

　　主要特點(diǎn)

　　★生產(chǎn)能力大,根據(jù)型號的不同,每爐可鍍制裝載量達(dá)分別為10~11Kg、20~25Kg、30~40Kg左右的瓷體。

　　★磁控濺射源工作特性穩(wěn)定可靠,沉積速率高,陰極體采用可變磁場,大大提高了靶材的利用率,在40%以上。

　　★根據(jù)不同電阻值和工藝要求配置不同濺射源,工藝適應(yīng)性強(qiáng)。如配置射頻濺射源可鍍制介質(zhì)膜,配備離化源可鍍制氧化膜。

　　★采用特殊分流式滾筒,瓷體鍍制膜層均勻,阻值集中。

　　★如配用PLC可編程控制,設(shè)備自動化水平提高,性能更加可靠,操作更為簡便。

　　★調(diào)節(jié)沉積室的氣氛可控沉積膜的阻值和TCR(溫度系數(shù));鍍制后電阻在合適的“后調(diào)整”熱處理后TCR可接近于零。

　　溫州市佳能真空電鍍設(shè)備科技有限公司是一家以真空鍍膜設(shè)備為主營業(yè)務(wù),集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的綜合性高科技環(huán)保型企業(yè)。佳能真空既是設(shè)備制造商,也是鍍膜工藝的開發(fā)商,可為客戶提供整套設(shè)備、工藝流程的設(shè)計(jì)以及技術(shù)人員的培訓(xùn)。

　　公司擁有一支技術(shù)精良的研發(fā)團(tuán)隊(duì),并聘請國內(nèi)外多位知名專家為技術(shù)顧問,具備較強(qiáng)的自主研發(fā)能力,現(xiàn)已研發(fā)制造連續(xù)式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線、平面矩形弧工具鍍膜機(jī)、多功能中頻磁控濺射多弧復(fù)合離子鍍膜機(jī)、中頻磁控濺射鍍膜機(jī)、多弧離子鍍膜機(jī)、光學(xué)鍍膜機(jī)以及真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)等系列真空鍍膜設(shè)備。佳能真空多年來憑著優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和周到的售后服務(wù),深受業(yè)內(nèi)人士的好評,并已通過ISO9001國際質(zhì)量管理體系認(rèn)證。

　　科技創(chuàng)造品質(zhì)、誠信打造品牌是我們的經(jīng)營原則,信譽(yù)第一、客戶至上是我們的服務(wù)宗旨,一流的售后服務(wù)是我們的服務(wù)保障,不斷創(chuàng)新是我們佳能永恒的追求,我們將竭誠為國內(nèi)外客商提供更好的產(chǎn)品,更優(yōu)的價(jià)格和更完善的售后服務(wù),佳能真空期待與您共創(chuàng)佳業(yè)。